檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Dah-shyang Tsai".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="場發射"
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使用[(CH3CH2)C5H4]2Ru當前驅物,於冷壁式有機金屬化學氣相沉積系統中成長二氧化釕奈米結構,其沉積在不同平面之基板上有不同的成長方向。使用場發射掃描式電子顯微鏡、X光繞射譜線,對二氧化釕…
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本論文主要探討利用垂直冷壁式有機金屬化學氣相沉積法(Cold-wall metal organic chemical vapor deposition; MOCVD)及自組反應式射頻磁控濺鍍系統(H…